Система с электронным и сфокусированными пучками Quanta 200 3D

Производитель: FEI Company (США)
Год ввода в эксплуатацию: 2006
Метрологическое сопровождение: Проходит ежегодную поверку

Назначение

Топографический анализ поверхностей металлических и полупроводниковых материалов, пространственная характеристика материалов, энергодисперсионный анализ (EDS) и анализ структуры и текстуры кристаллических материалов методом дифракции отраженных электронов (EBSD).

Система совмещает в себе сканирующий электронный микроскоп и термоэмиссионным катодом, сфокусированный ионный пучок, позволяющий прецизионно наносить и удалять материалы, а также системы энергодисперсионного микроанализа (EDS) и анализа структуры и текстуры кристаллических материалов (EBSD).
Системы Quanta позволяют работать с разнообразными типами образцов (в том числе непроводящими, загрязненными, влажными образцами и образцами способными к газовыделению при вакуумировании, порошками и суспензиями), превосходя по своим возможностям любые аналогичные сканирующие микроскопы.

Система оснащена

  • системой энергодисперсионного анализа (EDS) и анализа структуры и текстуры кристаллических материалов методом дифракции отраженных электронов (EBSD) PEGASUS
  • рентгеновским детектором Sapphire со сверхультратонким окном
  • системой подготовки образцов для просвечивающего микроскопа
  • комплектом для осаждения платины Platinum Deposition (Pt)
  • комплектом для выборочного травления углерода Selective Carbon Mill
  • программным обеспечением AutoFIB

Электронная оптикa

  • ускоряющее напряжение: 200—30000 V непрерывно
  • разрешение: 3.5 nm при 30 kV в режиме ESEM, < 15 nm при 3 kV в режиме низкого вакуума

 Ионная оптикa

  • ускоряющее напряжение: 5—30000 V
  • разрешение: 10.0 nm при 30 kV

Услуги