Дифрактометр рентгеновский X PERT PRO MRD

Производитель: PANalytical (Нидерланды)
Год ввода в эксплуатацию: 2012
Метрологическое сопровождение: Не поверяется

Рентгеновский дифрактометр Panalytical X ’ PERT PRO MRD Extended предназначен для исследования тонких структурных особенностей монокристаллов и гетероэпитаксиальных пленок толщиной от нескольких нанометров до нескольких микрон. 

В дифрактометре используется горизонтальный гониометр высокого разрешения.
Модульная конструкция
Размещение оптических модулей спроектировано на уникальной разработке PANalytical - платформе PreFIX(Pre-aligned Fast Interchangeable X-ray modules) с жесткой стабилизацией позиции.
Не имеющая аналогов платформа PreFIX с использованием технологий прецизионной механики позволяет производить смену оптических модулей максимально быстро (за время не более 20-50 сек) и без дополнительной юстировки. Таким образом, в одном дифрактометре обеспечивается возможность без труда проводить измерения порошков, моно- и поликристаллов, полупроводников, пленок, поверхностей и т.д. последовательно, просто заменив соответствующую приставку без последующей утомительной юстировки. 

Области применения:

  • дифрактометрия высокого разрешения
  • анализ текстуры и напряжений
  • анализ кривых качания, оценка совершенства упорядоченных структур
  • построение карт обратного пространства эпитаксиальных пленок и слоев
  • рефлектометрия
  • наноисследования, малоугловое рассеяние рентгеновских лучей SAXS (Small angle X-ray scattering)
  • анализ тонких и очень тонких нанопленок
  • фазовый анализ с высочайшей скоростью и точностью, метод Ритвельда
  • дифракция в плоскости (in-plane дифракция)
  • анализ монокристаллов и др.
Уникальные возможности:
  • система для измерений дифракции в плоскостях решетки, перпендикулярных типовой плоскости
  • extended-позиция - удлиненное плечо первичной оптики гониометра для получения максимального разрешения и интенсивности в параллельно-лучевой геометрии с рентгеновским параболическим зеркалом и любым из монохроматоров Бартеля
  • вторичная оптика для анализа тройных осей (анализатор), кривых качания, карт обратного пространства и т.п. - система для анализа с высочайшей разрешающей способностью полупроводников, эпитаксиальных высокоупорядоченных пленок, в т.ч. очень тонких